次世代の半導体製造技術「EUV（極端紫外線）」を巡り、装置メーカーの競争が激化する。東京エレクトロンが2021年3月期に過去最大の開発費を投じるほか、レーザーテックの受注高は過去1年で倍増した。EUV関連機器ではオランダのASMLが中核の露光装置を独占するが、検査や光源などで日本勢の存在感が高まる。
「EUVが普及すると、よりハイエンドな装置の需要が高まる」。こう話すのは半導体製造装置の世界3位…
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July 06, 2020 at 09:00AM
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次世代技術の「EUV」、半導体製造装置の競争促す - 日本経済新聞
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